Theo tạp chí Discovery, bằng cách tận dụng chức năng chống thấm nước và ngăn chặn tia UV của các thanh nano oxit kẽm, các nhà nghiên cứu từ Đại học Đông Bắc, Trung Quốc đã tạo ra một lớp phủ ưu việt cho nguyên liệu dệt may. Lớp phủ này không chỉ mô phỏng bản chất chống thấm nước của lá sen mà còn có chỉ số chống tia tử ngoại UPF = 101,51, gấp đôi mức chống lại tác hại của tia tử ngoại cao nhất có thể của vải vóc hiện nay. Các thí nghiệm trước đây đã tạo ra những sợi vải chống tia UV và tự làm sạch thông qua việc ứng dụng bề mặt của các tấm màng titan đioxit và kẽm oxit. Tuy nhiên, khi trưởng nhóm nghiên cứu Lingling Wang và các cộng sự biến đổi sợi dệt bông bằng các thanh nano oxit kẽm và các tinh thể kẽm oxit hình cái tạ, họ phát hiện nguyên liệu này có khả năng chống tia UV trong phạm vi rộng hơn.

Dẫu vậy, để đạt được điều đó cũng đồng nghĩa với việc phải triệt khử cẩn thận hoạt tính quang hóa của kẽm oxit - hợp chất vốn phản ứng với ánh sáng mặt trời theo cách làm tổn hại tới khả năng chống thấm nước của các thanh nano. Vì vậy, nhóm nghiên cứu đã phủ lên các thanh nano một lớp vỏ silica để khắc phục nhược điểm này. Các nhà khoa học hy vọng, công nghệ trên sẽ hữu dụng trong việc biến đổi nguyên liệu dệt bông, tạo ra các loại sợi vải có độ bền cao, đa chức năng với tính năng siêu chống thấm nước và ngăn chặn tia UV ưu việt.

Hồng Hà